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清洗产品:硅片半导体

清洗物质:
表面附着物

清洗要求:
除去表面附着物

清洗介质:
清洗剂

推荐清洗工艺:
采用高频超声清洗

推荐机型:

 

SLJ-D4048H半自动真空超声波清洗机
SLJ-D4048H半自动真空超声波清洗机
SLJ-G8192H全自动硅片超声波清洗线
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